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时间:2025-05-24 17:01:49 作者:“两新”政策效应显现 有效激发内需潜力 浏览量:85803

  北京日报客户端 | 记者 曹政

  10月12日晚,苏大维格收到深交所关注函,由于其在互动平台对投资者提问的回复涉嫌存在不真实、不准确、不完整情形及误导性陈述,深交所将对该公司及相关违规当事人启动纪律处分程序。

  9月14日,苏大维格在深交所投资者关系互动平台回复投资者提问时表示,该公司光刻机已实现向国内龙头芯片企业的销售,并已实现向日本、韩国、以色列等国家出口,并提及“公司已关注到纳米压印光刻在集成电路和芯片制造领域具备替代传统光刻的应用潜力,并在积极布局”。

  在互动平台对投资者提问的这些回复,受到媒体和投资者广泛质疑,并引起该公司股价大幅波动。午间开盘后,股价大幅拉升并触及涨停。此举很快引来深交所的关注函,要求其结合不同类型光刻设备的技术路线的差异,补充披露所生产光刻设备的具体类型、主要客户及下游用途以及最近一年一期境内外销售情况,并核实说明该公司的光刻设备是否能够直接用于芯片研发及制造、主要技术参数是否与业内龙头厂商存在较大差距。

  对此,苏大维格在半个多月后回复,称一般所称的光刻机是有掩模光刻机中的投影式光刻机,与其所生产的激光直写光刻机不属于同一技术路线。该公司自2001年左右开始研发各类光刻设备,主要用于微纳光学产品和衍射光学器件的制造,所生产的光刻设备目前不涉及集成电路领域相关产品的生产,激光直写光刻设备也在最小线宽、线宽均匀度、网格精度、稳定性等关键技术参数与同行业龙头公司相比存在较大差距。

  这份回复公告中,苏大维格承认直接使用了“光刻机”“龙头芯片公司”等可能引起误解的表述,未能充分考虑到部分投资者可能对光刻机的技术路线、相关技术的具体应用领域等情况不了解,未详细说明公司光刻设备的具体类型、公司主要的应用领域、与行业龙头企业的差距以及客户主要用途等信息,也未说明相关设备收入占公司收入比重较低,未充分提示相关风险,“前述回复引起了部分投资者误会和误解,并导致公司股价发生较大波动,对此,公司及公司证券部门诚恳向投资者表示歉意。”

  深交所方面称,该公司在互动易平台对投资者提问的回复涉嫌存在不真实、不准确、不完整情形及误导性陈述,涉嫌违反了相关规定,市场影响恶劣。根据《创业板股票上市规则》相关规定,深交所将对该公司及相关违规当事人启动纪律处分程序。

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